问答题

简答题简述几种常见的光刻方法。

【参考答案】

接触式光刻：分辨率较高，但是容易造成掩模版和光刻胶膜的损伤。
接近式曝光：在硅片和掩膜版之间有一个很小的间隙（10~25um），可以大大减小掩膜版的损伤，分辨率较低。
投影式曝光：利用透镜或反射镜将掩膜版上的图形投影到衬底上的曝光方法，目前用的最多的曝光方式。

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