光刻胶、掩膜版和光刻机。 光刻胶又叫光致抗蚀剂,它是由光敏化合物、基体树脂和有机溶剂等混合而成的胶状液体。 光刻胶受到特定波长光线的作用后,导致其化学结构发生变化,使光刻胶在某些特定溶液中的溶解特性改变。 正胶:曝光后可溶;负胶:曝光后不可溶。
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