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问答题

简答题 简述反应离子刻蚀。

【参考答案】

通过活性离子对衬底的物理轰击和化学反应双重作用刻蚀。具有溅射刻蚀和等离子刻蚀两者的优点,同时兼有各向异性和选择性好的优点。目前,RIE已成为VLSI工艺中应用最广泛的主流刻蚀技术。