简答题 列出恒定表面源扩散的三种主要工艺参数，并说明其含义和主要影响因素。

【参考答案】

掺杂剂量（Predeposition dose）：单位面积硅片内的杂质数。
对于恒定表面源扩散，由于表面浓度固定，因此总的掺杂剂量与扩散系数和扩散时间的平方根成正比；
结深（PN junction depth）：掺杂硅与硅衬底在杂质浓度相等处形成PN......

(↓↓↓ 点击‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)