简答题 解释有限表面源扩散，列出有限表面源扩散的三种主要工艺参数，并说明其含义和主要影响因素。

【参考答案】

扩散前先在硅片表面淀积一定数量的杂质，然后在整个扩散过程中将这层杂质作为扩散的杂质源，不再有新源补充，这种扩散方式称为有限表面源扩散。
表面杂质浓度：
有限表面源扩散的表面浓度随扩散时间和温度的增加而降低。扩散时间越长，扩散温度越高，杂质扩散的就越深，表面浓度就越低。
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