A.局部场氧化B.浅槽隔离C.pn结隔离D.混合隔离
多项选择题可以采取哪种方法来提高光刻分辨率()
A.增长光源波长B.增大分辨率系数C.减小分辨率系数D.缩短光源波长
多项选择题下列哪个工艺方法应用了等离子体技术()
A.RIEB.MOCVDC.溅射D.LPCVD
单项选择题实际VPE工艺温度多在质量传递控制区,此时外延速率()
A.对温度不太敏感B.对温度非常敏感C.源的气相扩散的影响不大D.源气体分压的影响不大
多项选择题蒸镀工艺要求蒸镀室为高真空度的原因()
A.为了避免蒸发分子(或原子)被氧化B.为了降低镀膜中的杂质C.为了减小蒸发分子(或原子)的平均自由程D.为了制备的镀膜表面更平坦
单项选择题PVD与CVD比较,下列哪种说法正确()
A.CVD普适性更好B.PVD薄膜的保形性更好C.CVD工艺温度更低D.PVD薄膜与衬底的粘附性较差