A.RIEB.MOCVDC.溅射D.LPCVD
单项选择题实际VPE工艺温度多在质量传递控制区,此时外延速率()
A.对温度不太敏感B.对温度非常敏感C.源的气相扩散的影响不大D.源气体分压的影响不大
多项选择题蒸镀工艺要求蒸镀室为高真空度的原因()
A.为了避免蒸发分子(或原子)被氧化B.为了降低镀膜中的杂质C.为了减小蒸发分子(或原子)的平均自由程D.为了制备的镀膜表面更平坦