A.CuB.PC.AgD.Au
多项选择题鸟嘴效应造成的不良影响有()。
A.有效栅宽变窄B.电流减少C.电容增加D.电阻增大
多项选择题消除鸟嘴效应的方法有()。
A.选择合适的掩蔽膜B.在氧化前,将窗口处的硅腐蚀掉深度,再进行局部氧化C.退火D.高压氧化工艺
单项选择题湿氧氧化采用的氧化水温是()。
A.95度B.90度C.80度D.75度
单项选择题硅暴露在空气中,在室温下即可产生二氧化硅层,厚度约为()。
A.30nmB.10nmC.20nmD.25nm
单项选择题下面哪个选项不是集成电路工艺用化学气体质量的指标?()
A.金属离B.微粒C.纯度D.浓度