A.95度B.90度C.80度D.75度
单项选择题硅暴露在空气中，在室温下即可产生二氧化硅层，厚度约为（）。
A.30nmB.10nmC.20nmD.25nm
单项选择题下面哪个选项不是集成电路工艺用化学气体质量的指标？（）
A.金属离B.微粒C.纯度D.浓度
