A.金属离B.微粒C.纯度D.浓度
单项选择题如下哪个选项不是半导体器件制备过程中的主要污染物？（）
A.化学物质B.金属离子C.融解的氧气D.细菌
单项选择题目前制备SOI材料的主流技术有几种？（）
A.注氧隔离法B.智能剥离法C.键合再减薄技术D.以上都是
