（1）光和团簇助化学气相沉积，其沉积率为6nm/min，这里等离子体和基片不接触。 （2）等离子体助化学气相沉积，在此过程中，在感应加热等离子体附近的辉光放电等离子体和基片相接触，沉积率为50nm/min。
问答题紫外线光致分解沉积系统的优点是什么？
问答题限制激光化学气相沉积沉积率的参数主要有哪些？
问答题激光化学气相沉积的反应系统和传统化学气相沉积系统相似，但薄膜的生长特点在许多方面是不同的，这其中的主要原因是什么？
问答题激光化学气相沉积过程中显示出的那些独特优越性？
问答题何为激光化学气相沉积，它的主要机制和作用是什么？
