简答题 简述蒸发镀膜相比溅射镀膜工艺的特点？

【参考答案】

溅射镀膜与真空镀膜相比，有如下特点：
（1）任何物质均可以溅射，尤其是高熔点、低蒸气压元素和化合物。不论是金属、半导体、绝缘体、化合物和混合物等，只要是固体，不论是块状、粒状的物质都可以作为靶材
（2）溅射膜与基板之间的附着性好
（3）溅射镀膜密度高，针孔少，且膜层的纯......

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