A.≤9E-7torrB.≥9E-7torrC.≤9E-5torrD.≥9E-5torr
单项选择题溅射中用于轰击靶材的气体是（）。
A.ArB.HeC.N2D.O2
单项选择题PVD的定义为（）。
A.物理气相沉积B.化学气相沉积C.等离子气相沉积D.平面真空镀膜
问答题简述薄膜应力对X射线衍射峰的影响规律及利用X射线衍射技术测童薄膜应力的两种方法。
问答题根据基片应变里求薄膜变形量的方法有哪些？
问答题当薄膜的厚度tf相对和基片的厚度ts很小时，薄膜和基片膨胀系数的相对大小对薄膜应力的性质的影响如何？当应力过大时薄膜会产生何现象？
