A.HeB.ArC.N2D.O2
单项选择题蒸发台真空度的要求一般（）。
A.≤9E-7torrB.≥9E-7torrC.≤9E-5torrD.≥9E-5torr
单项选择题溅射中用于轰击靶材的气体是（）。
A.ArB.HeC.N2D.O2
单项选择题PVD的定义为（）。
A.物理气相沉积B.化学气相沉积C.等离子气相沉积D.平面真空镀膜
问答题简述薄膜应力对X射线衍射峰的影响规律及利用X射线衍射技术测童薄膜应力的两种方法。
问答题根据基片应变里求薄膜变形量的方法有哪些？
