A.耐腐蚀性好B.与硅接触可能出现尖楔现象C.抗电迁移性差D.稳定性好关于铝膜下列哪种说法正确？（）……

多项选择题看图判断，下列哪种描述正确？（）

A.图（b）是注入的低能离子
B.图（b）是注入的高能离子
C.图（a）是注入的低能离子
D.图（a）是注入的高能离子

多项选择题扩散系数是表征扩散快慢的参数，它相当于单位浓度梯度时的扩散通量，所以它（）

A.单位为m²/s
B.有单位
C.无单位
D.单位为m/s

多项选择题‌P在两歩扩散工艺中，第二步再分布的同时又进行了热氧化（kp=10），这会给再分布扩散带来哪些影响？（）

A.P扩散速度加快
B.扩入Si的P总量下降
C.在SiO₂/Si界面Si一侧的P耗竭（是指低于SiO₂一侧）
D.在SiO₂/Si界面Si一侧的P堆积（是指高于SiO₂一侧）

多项选择题‏硅恒定源扩散，在扩散温度硅的固溶度为Ns，在进行了40min扩散后，测得结深是1.5μm，若要获得2.0μm的结深，在原工艺基础上应再扩散多少分钟？硅表面杂质浓度是多少？（）

A.杂质表面浓度< N_s
B.杂质表面浓度=N_s
C.应再扩散71min
D.表面杂质浓度等于该工艺温度时硅的固溶度

单项选择题多晶硅薄膜通常采取哪种方法制备？（）

A.磁控溅射
B.VPE
C.LPCVD
D.APCVD