简答题 什么是阱？CMOS工艺中阱的作用是什么？试说明CMOS双阱工艺中的阱是如何形成的？

【参考答案】

在硅衬底上形成的、掺杂类型或掺杂浓度与硅衬底不同的局部掺杂区域称为阱（well），包括：n阱、p阱和双阱（dual/twin-well）。
作用：对每一种器件独立的设定掺杂分布，从而使两类器件性能都得到优化；可以减轻CMOS电路的一些常见问题如闩锁效应。
如何形成：LPCVD&e......

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