简答题 试说明LOCOS和STI中淀积的衬垫氧化硅层以及场注的主要作用。

【参考答案】

垫养的作用：LOCOS和STI中都是作为缓冲层，用于减缓硅衬底与随后淀积的氮化硅之间的应力，改善硅与沟槽填充氧化物间的界面特性；同时保护有源区在去掉氮化物时免受沾污。
氮化硅的作用：LOCOS中作为氧化阻挡层，阻止其下的硅衬底发生氧化反应；STI中作为缓冲层（保护层），在淀积STI氧化物时......

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