A.可测量几个微秒的寿命 B.测量准确度高 C.测量下限较低 D.测量电阻率的下限也较低
单项选择题直流光电导衰退法的缺点主要有()
A.测量下限较高 B.对样品有几何形状和几何尺寸的要求 C.要求制备符合一定要求的欧姆接触 D.仪器线路比较复杂
多项选择题用接触法测量半导体单晶电阻率的方法主要有()
A.两探针法 B.四探针法 C.范德堡法 D.扩展电阻法
多项选择题影响半导体单晶电化学腐蚀速度的因素主要有()
A.电极电位 B.腐蚀液的成分 C.腐蚀处理的温度和搅拌的影响 D.缓冲剂的影响
多项选择题陷阱效应对少数载流子寿命测量的影响可以采用()
A.使整个样品加底光照 B.将硅单晶加热到50~70℃ C.加底光照后用氙灯闪光进行照射 D.将硅单晶加热到60~80℃
多项选择题下列有关漩涡缺陷的说法正确的是()
A.是晶体中点缺陷的局部聚集B.漩涡条纹是不连续的C.由大量的浅蚀坑组成D.在晶体中实际上是呈螺旋阶梯分布的