A.预B.再C.选择二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行（）扩散。……

单项选择题Ⅰ号液是（）过氧化氢清洗液.

A.碱性
B.酸性
C.中性

单项选择题在温度相同的情况下，制备相同厚度的氧化层，分别用干氧，湿氧和水汽氧化，哪个需要的时间最长？（）

A、干氧
B、湿氧
C、水汽氧化
D、不能确定哪个使用的时间长

单项选择题恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布？（）

A.高斯函数
B.余误差函数
C.指数函数
D.线性函数

单项选择题从离子源引出的是：（）

A、原子束
B、分子束
C、中子束
D、离子束

单项选择题离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。

A.能量
B.剂量