A、干氧 B、湿氧 C、水汽氧化 D、不能确定哪个使用的时间长
单项选择题恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布？（）
A.高斯函数B.余误差函数C.指数函数D.线性函数
单项选择题从离子源引出的是：（）
A、原子束 B、分子束 C、中子束 D、离子束
单项选择题离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。
A.能量 B.剂量
单项选择题离子注入层的深度主要取决于离子注入的（）。
多项选择题硅外延片的应用包括（）。
A.二极管和三极管 B.电力电子器件 C.大规模集成电路 D.超大规模集成电路
