A.多晶硅 B.氮化硅 C.二氧化硅
单项选择题二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行()扩散。
A.预 B.再 C.选择
单项选择题Ⅰ号液是()过氧化氢清洗液.
A.碱性 B.酸性 C.中性
单项选择题在温度相同的情况下,制备相同厚度的氧化层,分别用干氧,湿氧和水汽氧化,哪个需要的时间最长?()
A、干氧 B、湿氧 C、水汽氧化 D、不能确定哪个使用的时间长
单项选择题恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布?()
A.高斯函数B.余误差函数C.指数函数D.线性函数
单项选择题从离子源引出的是:()
A、原子束 B、分子束 C、中子束 D、离子束