A.0.5%B.1%C.0.05%D.0.1%
单项选择题P5000机台属于哪种类型的CVD工艺（）
A.APCVDB.LPCVDC.PCVDD.PECVD
单项选择题溅射过程中通过将哪种气体轰击靶材（）
A.He气B.N2气C.Ar气D.O2气
问答题为什么同一膜层的所有透过率极大值都相等？
问答题TiO2膜层的所有透过率极小值均不相等说明了什么？
问答题ZrO2膜层的两个透过率极小值相等说明了什么？
