A.SiH4、O2B.SiH4、NH3C.SiH4、N2OD.SiH4、N2
单项选择题溅射台使用的AlSi靶材中,Si的含量是()
A.0.5%B.1%C.0.05%D.0.1%
单项选择题P5000机台属于哪种类型的CVD工艺()
A.APCVDB.LPCVDC.PCVDD.PECVD
单项选择题溅射过程中通过将哪种气体轰击靶材()
A.He气B.N2气C.Ar气D.O2气
问答题为什么同一膜层的所有透过率极大值都相等?
问答题TiO2膜层的所有透过率极小值均不相等说明了什么?