简答题 试说明PVD法生长钻石薄膜之特性？

【参考答案】

PVD沉积钻石时除撞击区的少数原子外，其它的碳原子乃在真空下，而且温度很低，因此常被认为是低压法。由于钻石在低压为介稳定状态故PVD法乃被归类为介稳定生长钻石的方法。但在生长钻石的撞击区碳原子所受的压力及温度都很高。由于高温影响的区域有限，因此钻石乃在非平衡状态下长出。在这种情况原子不易扩散，生出钻......

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