问答题

简答题电浆辅助VCD系统具有何特色？

【参考答案】

一般CVD均是在高温的基板下产生沉积反应，如果以电浆激发气体，即所谓的电浆辅助CVD（Plasma enhanced CVD简称PECVD），则基板温度可以大幅降低。然而一般薄层的光电镀膜或次微米线条，相当脆弱，容易受到电浆离子撞击的伤害，故PECVD并不适宜。

<上一题目录下一题>

热门试题

问答题CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为几个步骤？

问答题TiN氮化钛镀膜具有哪些特点？

问答题真空蒸镀可应用在哪些产业？

问答题蒸镀的加热方式包括几种？各具有何特点？

问答题电浆技术在表面技术上的应用有哪些？

问答题常用的真空泵浦有几种？适用的抽气范围为何？

问答题镀膜技术可区分为几类？

问答题请具体分析MGF2溅料产生的原因？对此有什么好的方法可以预防。

问答题真空镀膜有哪些优点？

问答题刚开机时为什么要预热扩散泵油？在什么情况下扩散泵油会被氧化？

问答题装电子枪灯丝的过程以及要注意的问题？

问答题假设已恒温了30分钟，突然通知马上要换电，请详细说明从接到通知到开始镀膜整个处理过程.

问答题某一TiO2层刚开镀3秒钟，突然发现未充氧，该如何处理？

问答题写出更换防污板和上下片过程中的注意事项。

问答题写出镀膜过程应注意哪些参数变化？

简答题 电浆辅助VCD系统具有何特色？