简答题 CVD制程具有哪些优缺点？

【参考答案】

优点：
（1）真空度要求不高，甚至不须真空，如热喷覆。
（2）高沉积速率，APCVD可以达到1μm/min。
（3）相对于PVD，化学量论组成或合金的镀膜比较容易达成。
（4）镀膜的成份多样化，包括金属、非金属、氧化物、氮化物、碳化物、半导体、光电材料、......

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