问答题

简答题 CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为几个步骤？

【参考答案】

（1）不同成份气相前置反应物由主流气体进来，以扩散机制传输基板表面。理想状况下，前置物在基板上的浓度是零，亦即在基板上立刻反应，实际上并非如此。
（2）前置反应物吸附在基板上，此时仍容许该前置物在基板上进行有限程度的表面横向移动。
（3）前置物在基板上进行化学反应，产生沉积物的化...

(↓↓↓ 点击‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)

<上一题目录下一题>

热门试题

问答题TiN氮化钛镀膜具有哪些特点？

问答题真空蒸镀可应用在哪些产业？

问答题蒸镀的加热方式包括几种？各具有何特点？

问答题电浆技术在表面技术上的应用有哪些？

问答题常用的真空泵浦有几种？适用的抽气范围为何？

问答题镀膜技术可区分为几类？

问答题请具体分析MGF2溅料产生的原因？对此有什么好的方法可以预防。

问答题真空镀膜有哪些优点？

问答题刚开机时为什么要预热扩散泵油？在什么情况下扩散泵油会被氧化？

问答题装电子枪灯丝的过程以及要注意的问题？

问答题假设已恒温了30分钟，突然通知马上要换电，请详细说明从接到通知到开始镀膜整个处理过程.

问答题某一TiO2层刚开镀3秒钟，突然发现未充氧，该如何处理？

问答题写出更换防污板和上下片过程中的注意事项。

问答题写出镀膜过程应注意哪些参数变化？

问答题如果晶振速率突然不稳你该怎么处理？