A.分子成键B.原子堆积C.化学吸附D.台阶流动
单项选择题等离子鞘层中两极间的全部电压降几乎均集中在()中。
A.阳极B.阴极鞘层C.阴极D.阳极鞘层
单项选择题不同压力下,气体的流动状态可以分(),粘滞流和介于两者之间的过渡状态。
A.分子流B.原子流C.紊流D.层流
单项选择题以下哪一个不是连续薄膜的生长方式?()
A.熔结B.原子填充C.吞并D.原子团迁移
判断题对于LPCVD Si3N4工艺,NH3 DCS比例越小颗粒改善越明显。()
判断题在LPCVD Si3N4制程中,增加总压力和DCS的分压可以增加淀积速度。()