等离子鞘层中两极间的全部电压降几乎均集中在（）中。

单项选择题‌不同压力下，气体的流动状态可以分（），粘滞流和介于两者之间的过渡状态。

A.分子流
B.原子流
C.紊流
D.层流

单项选择题以下哪一个不是连续薄膜的生长方式？（）

A.熔结
B.原子填充
C.吞并
D.原子团迁移

单项选择题液态TEOS源是采用载流气体鼓泡方式携带，例如N2、O2、He，而P1102.TEOS工艺是采用（）进入反应炉。

A.N₂
B.O₂
C.He
D.水浴饱和蒸汽

单项选择题下列哪种工艺会使用到RF？（）

A.电镀
B.SOG
C.APCVD
D.PECVD

单项选择题在硅片加工中可以接受的膜，以下不具备需要的膜特征（）

A.好的台阶覆盖能力
B.填充高的深宽比间隙的能力
C.好的厚度均匀性
D.高的膜应力