A.阳极B.阴极鞘层C.阴极D.阳极鞘层
单项选择题不同压力下,气体的流动状态可以分(),粘滞流和介于两者之间的过渡状态。
A.分子流B.原子流C.紊流D.层流
单项选择题以下哪一个不是连续薄膜的生长方式?()
A.熔结B.原子填充C.吞并D.原子团迁移
判断题对于LPCVD Si3N4工艺,NH3 DCS比例越小颗粒改善越明显。()
判断题在LPCVD Si3N4制程中,增加总压力和DCS的分压可以增加淀积速度。()
判断题Si3N4可以被用做硅片的钝化保护层,也被用做掩蔽膜,还可应用于电容。()