一般随着放电的压力增高，离子流增大，溅射速率增加，从而沉积速率亦会增大，但放电压力过高，由于背散射增加，溅射粒子易于返回靶的表面，并且压力过高时，平均自由程短，电子碰撞电离的几率下降，所以又会出现沉积速率下降的趋势。故总的来说，随着放电压力的增大，沉积速率先增大，当达到一最大值时又开始下降。
问答题什么是溅射速率？
问答题溅射粒子角分布（方向分布）如何？
问答题为什么溅射产额与离子的入射方向有关？
问答题为什么选用氩气作为放电气体？
问答题溅射产额与哪些因素有关？
