问答题浸没式光刻机相对于传统的光刻机有何不同。
问答题什么是光刻中常见的表面反射和驻波效应?如何解决?
问答题典型的光刻工艺主要有哪几步?简述各步骤的作用。
问答题个投影曝光系统采用ArF光源,数值孔径为0.6,设k1=0.6,n=0.5,计算其理论分辨率和焦深。
问答题在光刻中,能够在增加分辨率的同时增加聚焦深度吗?为什么?