问答题典型的光刻工艺主要有哪几步？简述各步骤的作用。
问答题个投影曝光系统采用ArF光源，数值孔径为0.6，设k1=0.6，n=0.5，计算其理论分辨率和焦深。
问答题在光刻中，能够在增加分辨率的同时增加聚焦深度吗？为什么？
问答题根据曝光方式的不同，光学光刻机可以分成几类？各有什么优缺点？
问答题在干法刻蚀的终点检测方法中，光学放射频谱分析法最常见，简述其工作原理和优缺点。
