根据瑞利判据:要提高分辨率,可以通过增大数值孔径NA来实现。传统曝光设备在镜头与硅片之间的介质是空气,空气的折射率是1;浸液式光刻机采用一种高折射率的介质代替空气,那么NA就能够提高。
问答题什么是光刻中常见的表面反射和驻波效应?如何解决?
问答题典型的光刻工艺主要有哪几步?简述各步骤的作用。
问答题个投影曝光系统采用ArF光源,数值孔径为0.6,设k1=0.6,n=0.5,计算其理论分辨率和焦深。
问答题在光刻中,能够在增加分辨率的同时增加聚焦深度吗?为什么?
问答题根据曝光方式的不同,光学光刻机可以分成几类?各有什么优缺点?