主要原因是堆积在靶面化合物膜层上的正离子以及堆积在阳极表面绝缘层上的电子产生强电场，最终因强电场击穿而引发弧光放电。
问答题什么是阳极消失？
问答题在靶中毒的情况下，沉积速率和反应气体流量为什么会出现迟滞现象？
问答题为什么反应溅射沉积速率低？
问答题磁控靶表面的磁场强度是多少？
问答题磁控溅射典型的工艺参数？
