（1）在P衬底上制造N阱，从而用来制造PMOS管；（2）作阱电阻；（3）作为电容的一个极板。
问答题什么是硅栅自对准？
问答题什么是局部氧化？有什么作用？
问答题简述双极型工艺流程。
问答题光刻的步骤是哪些？
问答题简述接触式光刻、接近式光刻及投影式光刻的优缺点。
