问答题简述接触式光刻、接近式光刻及投影式光刻的优缺点。
问答题简述P衬底N阱CMOS的工艺流程。
问答题CMOS集成电路有哪些特点?
问答题埋层有什么作用?说明埋层与衬底掺杂类型、掺杂浓度之间的关系。
问答题P阱CMOS与N阱CMOS相比有什么不同?