判断题在CVD反应中低压的作用就是使反应物更快地到达衬底表面。（）
判断题膜的应力要尽可能小，因为应力会导致衬底发生凸起或凹陷的变形，所有的淀积都会在膜中产生应力。（）
判断题通过调节P5000基座水平可改善淀积膜厚的均匀性。（）
判断题溅射与蒸发过程中真空度大小直接影响制品反射率情况。（）
判断题蒸发淀积多元化合金薄膜时，可较好控制其化学成分。（）
