判断题溅射与蒸发过程中真空度大小直接影响制品反射率情况。()
判断题蒸发淀积多元化合金薄膜时,可较好控制其化学成分。()
判断题P1848设备TEOS水浴加热后通过He携带进入腔体与O2气发生反应生成SiO2。()
判断题溅射淀积工艺的金属台阶覆盖要比蒸发淀积的台阶覆盖更好。()
单项选择题液态TEOS源是采用载流气体鼓泡方式携带,例如N2、O2、He,而P1102.TEOS工艺是采用()进入反应炉。
A.N2B.O2C.HeD.水浴饱和蒸汽