将离子产生的区域与溅射沉积的区域分开。离子产生在较高的压力下，再将其引入到真空度高的区域进行溅射沉积，这样既可以避免放电空间的杂质及其他污染，防止带电粒子的轰击而引起的基体升温和膜层损伤，又可以控制溅射离子流的能量，束流的大小和方向。
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