由于正交的磁场有效的地将电子束缚在靶面附近运动，大大提高了电子的电离能力，所以磁控溅射可以在较低的放电电压，在较低的压力下，大大提高沉积速率。同时约束了电子对基体的轰击升温的作用。
问答题合金薄膜沉积中溅射镀膜和蒸发镀膜有何区别？
问答题沉积速率与压力关系如何？
问答题什么是溅射速率？
问答题溅射粒子角分布（方向分布）如何？
问答题为什么溅射产额与离子的入射方向有关？
