A.掩膜版B.对准和曝光C.光刻机D.光刻胶
单项选择题进行光刻工艺前的清洗步骤是()。
A.碱溶液清洗B.有机溶液清洗C.HF结尾的清洗工艺D.去离子水冲洗
多项选择题刻蚀过程中聚合物形成的来源有()。
A.光刻胶B.Si衬底C.刻蚀气体中的碳和其它物质组成的化合物D.刻蚀溶液
多项选择题掺杂后,退火的目的是()。
A.实现电激活B.修复损伤C.提高掺杂均匀性D.加大损伤
多项选择题常压的硅外延方法有()。
A.四氯化硅氢还原法B.三氯氢硅氢还原法C.二氯氢硅烷法D.硅烷热分解法
单项选择题刻蚀工艺可以和以下哪个工艺结合来实现图形的转移?()
A.氧化B.离子注入C.光刻D.抛光