在离子注入掺杂时，有少部分杂质进入衬底后穿过较大距离，这种现象就是（）。当偏离晶向（）ψc注入时，可以避免。

多项选择题‌关于氧化速率下面哪种描述是正确的？（）

A.有杂质（如Na、P等）存在，氧化速率降低
B.生长十几nm厚的栅氧化层时，服从线性氧化速率
C.温度升高氧化速率迅速增加
D.（111）硅比（100）硅氧化得快

单项选择题在硅片晶向、掺杂类型介绍中，由硅片断裂边形成的角度是60º可知硅片是什么晶向？（）

A.（100）
B.（111）
C.（110）
D.（211）

多项选择题关于铝膜下列哪种说法正确？（）

A.耐腐蚀性好
B.与硅接触可能出现尖楔现象
C.抗电迁移性差
D.稳定性好

多项选择题看图判断，下列哪种描述正确？（）

A.图（b）是注入的低能离子
B.图（b）是注入的高能离子
C.图（a）是注入的低能离子
D.图（a）是注入的高能离子

多项选择题扩散系数是表征扩散快慢的参数，它相当于单位浓度梯度时的扩散通量，所以它（）

A.单位为m²/s
B.有单位
C.无单位
D.单位为m/s