由于同位素稀释法要求被测量的元素至少应有两个或两个以上的稳定同位素，因此目前在周期表的元素中只有（）个元素符合这个条件。

单项选择题冷等离子体技术采用的功率为（）W。

A.200~500
B.500~1000
C.1000~1400
D.1500~2000

单项选择题ICP-MS截取锥的锥口位于距形成马赫（）处为截取锥的最佳位置。

A.1/3
B.1/2
C.2/3
D.4/3

单项选择题ICP-MS交叉雾化器气体喷嘴位于液体喷嘴中心与边界之间（）倍距离时，雾化器性能最佳。

A.0.5~1
B.1~1.5
C.1.5~2
D.2~2.5

单项选择题ICP-MS雾化器只允许小于（）μm的气溶胶雾滴进入等离子体。

A.1
B.5
C.10
D.20

单项选择题ICP-MS在雾化气中加入（），对发现易形成难熔氧化物的待测元素极为有利。

A.氧气
B.氦气
C.氢气
D.氖气

单项选择题ICP-MS是一种（）分析技术，能够检测和测量样品中（）元素的含量。

A.有机，有机
B.无机，无机
C.食品，食品
D.材料，材料

单项选择题下面关于ICP-MS分析中空白分析说法不正确的是（）

A.清洗空白溶液一般是2%体积分数的硝酸溶液，在测定样品过程中用来清洗仪器，以降低记忆效应干扰
B.试剂空白也叫过程空白，是与样品处理过程一样加入相同体积的所有试剂，用来评价样品制备过程中可能的污染和背景谱干扰
C.ICP-MS分析中改变样品种类（标准、空白、地表水样品、地下水样品等）时，无须清洗空白样品
D.校准空白一般是一定体积分数的硝酸溶液，用来建立分析校准曲线

单项选择题下面关于ICP-MS分析中内标使用的说法不正确的是（）

A.ICP-MS分析时应监控整个样品分析过程中的内标响应
B.任何一种内标的绝对响应值偏差都不能超过校准空白中最初响应的60%~125%
C.内标绝对响应值偏差超过校准空白中最初响应的60%~125%时，应用清洗空白的溶液清洗系统
D.内标绝对响应值偏差超过监控限时可以继续分析样品

单项选择题下面关于ICP-MS分析中基体干扰校正说法不正确的是（）

A.ICP-MS 条件优化可以降低基体干扰
B.外标漂移校正法不能降低基体干扰
C.内标法是降低基体干扰的有效方法
D.通过校正标准和样品基体匹配可降低基体干扰

单项选择题下面关于ICP-MS分析中使用碰撞 反应池技术的说法不正确的是（）

A.干扰离子碰撞解离模式是碰撞/反应池技术的应用模式
B.反应模式是碰撞/反应池技术的应用模式
C.干扰离子功能歧视消除模式是碰撞/反应池技术的应用模式
D.碰撞/反应池技术不能解决ICP-MS分析中的多原子离子干扰问题