下面关于ICP-MS分析中内标使用的说法不正确的是（）

单项选择题下面关于ICP-MS分析中基体干扰校正说法不正确的是（）

A.ICP-MS 条件优化可以降低基体干扰
B.外标漂移校正法不能降低基体干扰
C.内标法是降低基体干扰的有效方法
D.通过校正标准和样品基体匹配可降低基体干扰

单项选择题下面关于ICP-MS分析中使用碰撞 反应池技术的说法不正确的是（）

A.干扰离子碰撞解离模式是碰撞/反应池技术的应用模式
B.反应模式是碰撞/反应池技术的应用模式
C.干扰离子功能歧视消除模式是碰撞/反应池技术的应用模式
D.碰撞/反应池技术不能解决ICP-MS分析中的多原子离子干扰问题

单项选择题下面关于ICP-MS分析中使用数学校正法的说法不正确的是（）

A.如果干扰元素浓度特别高，而分析元素很低的情况下，数学校正法误差较大
B.多原子离子干扰不能通过干扰校正公式（方程）校正
C.可根据分析同位素和干扰同位素的关系推导出干扰校正公式（方程），利用干扰校正公式在线校正
D.可通过测定较高含量的干扰元素纯溶液求出干扰系数，离线对分析结果进行校正

单项选择题下面关于ICP-MS分析中，分离基体干扰元素的做法不正确的是（）

A.可采用共沉淀过滤分离基体的方法分离干扰元素
B.可采用色谱自动分离富集的方法分离干扰元素
C.用分离富集的方法分离干扰元素最大的缺点是容易带来试剂空白和污染问题
D.高氯海水痕量元素的分析中，去除基体影响达不到分离基体干扰元素的目的

单项选择题下面关于ICP-MS分析中双电荷离子干扰说法不正确的是（）

A.等离子体中双电荷离子的形成受元素的二次电离能和等离子体平衡条件控制
B.在非常低的雾化气流速条件下，等离子体的温度增高，双电荷离子产率增高
C.双电荷离子干扰可通过雾化气流速、RF功率、等离子体的采样位置的最佳化降低
D.降低RF可以降低双电荷离子干扰水平

单项选择题下面关于ICP-MS分析中难熔氧化物干扰说法不正确的是（）

A.难熔氧化物离子是指难熔元素与氧结合
B.一般用CeO/Ce的比率来表征仪器的氧化物
C.为减少氧化物和氢氧化物的干扰，尽量选择低的载气流速
D.增加RF可以降低氧化物干扰

单项选择题下面关于ICP-MS分析中多原子离子干扰说法不正确的是（）

A.难熔元素与氧形成氧化物离子会带来多原子离子干扰
B.等离子体中主要成分之间的离子反应产物会带来多原子离子干扰
C.多原子离子干扰是不可以预测的，对分析结果的影响无法降低
D.多原子离子干扰是ICP-MS分析中最严重的干扰类型

单项选择题下面关于ICP-MS检测器的电子倍增器说法不正确的是（）

A.为保护检测器寿命，对高浓度样品尽可能稀释后测定
B.为保护检测器寿命，尽量避免长时间测量高强信号
C.电子倍增器的寿命与总的累积放电无关

单项选择题下面关于ICP-MS接口采样锥和截取锥说法不正确的是（）

A.采用超声波在大约5%的洗涤液中清洗15min，再用去离子水超声清洗15min
B.用专用金属抛光粉和成泥状，再用软布蘸少量由内到外擦拭锥体内表面和外表面
C.用水冲洗抛光粉擦拭过的锥后，再在5%的硝酸中超声清洗2min，再用去离子水洗净并于空气中干燥
D.清洗锥时，可将锥浸泡在5%的稀硝酸中30min

单项选择题下面关于ICP-MS仪器稳定性的说法不正确的是（）

A.短期稳定性一般指在20min内测量结果的稳定程度
B.短期稳定性以20min内等时间间隔对适当元素溶液测量10次的RSD表征
C.长期稳定性以2~4h内等时间间隔对适当元素溶液测量10次的RSD表征
D.短期稳定性可用仪器开机后30min内的测量结果表征