A.非逻辑B.与逻辑C.或逻辑D.异或逻辑
多项选择题MOS管版图一般匹配原则有()。
A.彼此靠近B.方向一致C.环境相同D.加大尺寸
多项选择题集成电路版图物理验证必须要做的步骤主要有哪些?()
A.DRCB.ERCC.LVSD.SVS
单项选择题集成电路再分析软件其处理的主要对象是()。
A.GDS II文件B.实物芯片照片C.cadence中绘制的版图D.芯片电路图
单项选择题摩尔定律中每一代集成电路上晶体管密度翻倍值是多少?()
A.1倍B.2倍C.3倍D.4倍
多项选择题外延双阱工艺的优点包括()。
A.实现N阱和P阱独立控制B.更平坦的表面C.做在阱区内的器件可以减少受到α粒子辐射的影响D.抑制闩锁效应