A.HeB.ArC.N2D.O2
单项选择题蒸发台真空度的要求一般（）。
A.≤9E-7torrB.≥9E-7torrC.≤9E-5torrD.≥9E-5torr
单项选择题溅射中用于轰击靶材的气体是（）。
A.ArB.HeC.N2D.O2
单项选择题PVD的定义为（）。
A.物理气相沉积B.化学气相沉积C.等离子气相沉积D.平面真空镀膜
名词解释什么是真空规; 真空规名词解释定义是什么?
名词解释什么是磁控溅射; 磁控溅射名词解释定义是什么?
