‎热氧化工艺本质上是在硅与二氧化硅（）发生的硅的氧化反应。

填空题低压气相外延能降低（）效应，从而降低了外延时的杂质再分布。

多项选择题关于铝膜下列哪种说法正确？（）

A.耐腐蚀性好
B.与硅接触可能出现尖楔现象
C.抗电迁移性差
D.稳定性好

多项选择题看图判断，下列哪种描述正确？（）

A.图（b）是注入的低能离子
B.图（b）是注入的高能离子
C.图（a）是注入的低能离子
D.图（a）是注入的高能离子

多项选择题扩散系数是表征扩散快慢的参数，它相当于单位浓度梯度时的扩散通量，所以它（）

A.单位为m²/s
B.有单位
C.无单位
D.单位为m/s

多项选择题‌P在两歩扩散工艺中，第二步再分布的同时又进行了热氧化（kp=10），这会给再分布扩散带来哪些影响？（）

A.P扩散速度加快
B.扩入Si的P总量下降
C.在SiO₂/Si界面Si一侧的P耗竭（是指低于SiO₂一侧）
D.在SiO₂/Si界面Si一侧的P堆积（是指高于SiO₂一侧）