A.浸渍提拉法B.旋覆法C.喷涂法D.等离子体法制备好的溶胶可通过（）方法实现成膜。……

单项选择题磁控溅射与二级溅射相比的特点是（）

A.结构简单
B.镀膜速率慢
C.基片温度低、损伤小
D.靶材利用率高

单项选择题基片浸入预先制备好的溶胶中，以一定的速度将基片向上提出液面，这时在基片上会形成一层均匀的液膜，这种方法是（）

A.旋覆法
B.喷涂法
C.浸渍提拉法
D.刷涂法

单项选择题在清洁的超高真空环境下，是具有一定热能的一种或多种分子束流喷射到晶体衬底，在衬底表面发生反应的成膜的技术是（）

A.化学气相沉积
B.离子束辅助沉积
C.多弧离子镀
D.分子束外延

单项选择题两极间接上射频电源后，两极间等离子体中的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在基板表面成膜的技术是（）

A.直接三级溅射
B.磁控溅射
C.射频溅射
D.直流二级溅射

单项选择题通过物理法和化学法可以得到所需的纳米薄膜材料，属于物理法制备纳米薄膜材料的是（）

A.激光诱导化学气相沉积
B.溶胶-凝胶法
C.金属有机物化学气相沉积
D.磁控溅射法