A.结构简单B.镀膜速率慢C.基片温度低、损伤小D.靶材利用率高磁控溅射与二级溅射相比的特点是（）……

单项选择题基片浸入预先制备好的溶胶中，以一定的速度将基片向上提出液面，这时在基片上会形成一层均匀的液膜，这种方法是（）

A.旋覆法
B.喷涂法
C.浸渍提拉法
D.刷涂法

单项选择题在清洁的超高真空环境下，是具有一定热能的一种或多种分子束流喷射到晶体衬底，在衬底表面发生反应的成膜的技术是（）

A.化学气相沉积
B.离子束辅助沉积
C.多弧离子镀
D.分子束外延

单项选择题两极间接上射频电源后，两极间等离子体中的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在基板表面成膜的技术是（）

A.直接三级溅射
B.磁控溅射
C.射频溅射
D.直流二级溅射

单项选择题通过物理法和化学法可以得到所需的纳米薄膜材料，属于物理法制备纳米薄膜材料的是（）

A.激光诱导化学气相沉积
B.溶胶-凝胶法
C.金属有机物化学气相沉积
D.磁控溅射法

单项选择题直流溅射是利用直流辉光放电产生离子轰击靶材进行溅射镀膜的技术，靶材固定在（）极。

A.阴
B.空
C.阳